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深圳森丰申请改善干涉色正侧色差的PVD膜层制备方法专利,改善货品...金融界2024年11月5日消息,国家知识产权局信息显示,深圳森丰真空镀膜有限公司申请一项名为“一种改善干涉色正侧色差的PVD膜层制备方法”的专利,公开号CN 118895484 A,申请日期为2024年8月。专利摘要显示,本发明公开了一种改善干涉色正侧色差的PVD膜层制备方法,属于PV后面会介绍。
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京东方A申请芯片结构专利,提升芯片晶圆单元和色转换层基板单元的...2024年2月2日消息,据国家知识产权局公告,京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“芯片结构、芯片制备方法、显示基板和显示装置“公开号CN117501355A,申请日期为2022年5月。专利摘要显示,一种芯片结构,芯片结构包括:芯片晶圆单元和设置于芯片晶圆单元出光侧的色转换等会说。
TCL华星光电技术有限公司申请色阻组合物及显示面板专利,降低显示...申请日期为2024年8月。专利摘要显示,本申请公开了一种色阻组合物及显示面板;色阻组合物包括色浆、树脂、单体以及引发剂,单体包括第一类单体以及第二类单体;其中,第一类单体中的交联基团的数量小于4,第二类单体中的交联基团的数量大于或等于5;本申请提供的单体中,交联基团数好了吧!
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